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Dielektrische Festigkeit 10-15 kV pro mm Aluminiumoxid-Substrat Al2O3-Substrat Aluminiumnitrid AlN Kompatibel für elektronische Anwendungen
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Pneumatischer Typ Aluminiumnitrid Substrat AlN Substrat Druckempfindlicher Klebstoff für Wärmeübertragung und elektrische Isolierung
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UV-Laser-Aluminiumnitrid-Substrat AlN-Substrat, geeignet für elektronische Baugruppen mit hoher Wärmeleitfähigkeit
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UV-Laser-MOSFET-Leistungsmodul-Substrat, ausgelegt für eine Feuchtigkeitsaufnahme von unter 0,05 Prozent, was Stabilität und Energieumwandlung gewährleistet
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Feuchtigkeitsaufnahme weniger als 0,05 Prozent MOSFET-Leistungsmodul-Substrat Pneumatik-Typ System für Wärmemanagement und Haltbarkeit konzipiert
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Tonerde-Bienenwaben-verdünnen keramische Katalysator-Substrate und Gewohnheit